福岡大学 工学部 電気工学科 電力・プラズマ研究室
電力・プラズマ研究室
研究紹介research
アモルファス炭素膜形成の制御
炭化水素分子をプラズマ中で分解して形成した膜は様々な分野で使われ, 今後もその用途は広がっていく。そこで, 原子レベルで制御して膜を形成し, その膜の特性を調べる。
水素プラズマによるSi基板への水素注入
金属など材料に水素が侵入するともろくなり（水素脆化）, 鉄橋等の構造物の破壊につながる。一方, 水素を表面近くに入れておくと, それ以上水素が入らず構造物の寿命が延びるとの報告もある。シリコンに水素を導入した場合, 水素が結晶中にどのように入っているのか, 実際に割れにくくなっているのかを調べる。
新たなスパッタ源による成膜
HIPIMS(高パワーインパルスマグネトロンスパッタリング)
最近, 注目されている新たなスパッタリング法であるHIPIMSでの成膜を原子レベルで行うために, 放電開始特性, 放電特性, 膜形成の特徴を, 気相から固相に至るまでトータルに調べる。
